刻蚀镀膜仪库存库号：M398493 刻蚀镀膜仪库存库号：M398493
刻蚀镀膜仪 型号: PECS II 685.M库号：M398493 刻蚀镀膜仪 PECS II 型号 685 刻蚀镀膜仪 (PECS™)II 是一款桌面型宽束氩离子抛光及镀膜设 备。 对于同一个样品，可在同一真空环境下完成抛光及镀膜. PECS II 是一款独立、结构紧凑的台式设 备。采用两个宽 束氩离子源对样品表面进行抛光， 去除损伤层，从而得到高 质量样品，用于在 SEM， 光镜或者扫描探针显微镜上进行成 像、EDS、EBSD、CL、EBIC 或其它分析。 PECS II 采用 WhisperLok®技术，可选 配温控液氮冷却台。该 功能有助于避免抛光过程 中产生的热量而导致的样品融化或者结 构变化。. PECS II内置了一个 10 英寸的触摸屏。无论新手还是级用户， 都可提高样品的加工可控性 及可重复性。数码变焦显微镜配合 DigitalMicrograph® 软件，可实现对样品加工过程的实时 监控及 储存彩色照片，这便于在SEM中进行样品检查和分析。 主要应用 • 半导体 • 金属（氧化物，合金） • 陶瓷 • 自然资源 技术规格 PECS II 系统 离子源 离子枪 两个配有稀土磁铁的潘宁离子枪 抛光角度 0 到18° 每支离子枪可独立调节 离子束能量 (kV) 0.1 – 8.0 离子束流密度峰值(mA/cm2) 10 抛光速率 (µm/h) 300（对于硅试样） 离子束直径 可用气体流量计或放电电压来调节 样品台 样品大小(长 * 宽 * 高, mm) 32 x*15 转速 (rpm) 1 – 6 离子束调制 角度范围可调的单向调制或双向调制 样品观察 数码变焦显微镜，配有 PC 及 DigitalMicrograph 软件（选配件） 真空系统 干泵系统 两级隔膜泵支持 80 L/s的涡轮分子泵 压力 (torr) 基本压力 5 x 10-6 工作压力 8 x 10-5 真空规 冷阴极型，用于主样品室；固体型， 用 于 前级机械泵 样品气锁 WhisperLok技术，样品交换时 间小于1 分钟 用户界面 10 英寸彩色触摸屏 操作简单，且能够控制所有参数 和配方式操作 尺寸及使用要求 外形尺寸 (长 x*宽 * 高, mm) 575 *495 * 615 运输重量(kg) 45 功耗 (W) 运行时 待 200 机时 100 电源要求 通用 100 – 240 VAC，50/60 Hz（用 户电压和频率） 氩气(psi) 25 注：以上技术规格如有变化将不另行通知 订购型号 型号 描述 685 Cold (685.C) 带有冷台的 PECS II 685 Pro (685.O) 带有冷台和数字成像显微系统的 PECS II 685 Advantage (685.A) 带有冷台、数字成像显微系统和马达 驱动离子枪系统的 PECS II 685 Met Etch (685.M) PECS II 基本版,不带溅射沉积 685 ProTransfer (685.OV) 带有真空转移装置的 PECS II Pro 系 统 685 AdvantageTransfer (685.AV) 带有真空转移装置的 PECS II Advantage 系统 注：关于配件和耗材的详细情况，请咨询当地的销售代表。
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